In questo libro, le tecniche di ingegneria del canale e di ingegneria del gate sono combinate per formare nuove strutture di dispositivi proposte come MOSFET a singolo alone e doppio materiale (SHDMG) e MOSFET a doppio alone e doppio materiale (DHDMG). I MOSFET avanzati sono drogati in modo non uniforme a causa del complesso flusso di processo. Pertanto, uno dei fattori chiave per modellare accuratamente i parametri caratteristici ??? la modellazione del profilo di drogaggio non uniforme. Il libro presenta anche un modello ...
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In questo libro, le tecniche di ingegneria del canale e di ingegneria del gate sono combinate per formare nuove strutture di dispositivi proposte come MOSFET a singolo alone e doppio materiale (SHDMG) e MOSFET a doppio alone e doppio materiale (DHDMG). I MOSFET avanzati sono drogati in modo non uniforme a causa del complesso flusso di processo. Pertanto, uno dei fattori chiave per modellare accuratamente i parametri caratteristici ??? la modellazione del profilo di drogaggio non uniforme. Il libro presenta anche un modello analitico del potenziale superficiale sotto soglia, della tensione di soglia, della corrente di drenaggio basata sulla teoria della diffusione della deriva e della transconduttanza per gli n-MOSFET SHDMG e DHDMG a profilo lineare e gaussiano che operano fino al regime dei 40 nm. Viene inoltre proposto un modello analitico di corrente di drenaggio sotto soglia basato sul potenziale quasi-Fermi per transistor MOS SHDMG e DHDMG lineari e a profilo gaussiano, che incorpora i campi di frangia alle due estremit??? del dispositivo.
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